摘要：为了制备低折射率疏水SiO2薄膜,将正硅酸乙酯（TEOS）和二甲基二乙氧基硅烷（DDS）在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷（HMDS）做进一步的改性,采用提拉浸渍工艺在玻璃基底上制备单层增透膜。通过对溶胶粘度随老化时间的变化规律及HMDS添加对薄膜接触角影响等的分析与研究,制备了接触角最大的低折射率薄膜;同时对薄膜的红外特性、透过率、折射率进行了表征。结果表明:TEOS和DDS共水解缩聚提高了膜层疏水性,经HMDS改性后,薄膜的接触角为149°,折射率为1.12。

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