Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics杂志是一本国际优秀期刊，是一本未开放获取期刊。该杂志近三年CiteScore评价值分别为：2025年2.5、2024年2.4、2023年2.7。该刊专门致力于推进工程电子与电气领域的研究，涵盖了工程电子与电气领域的各个方面，汇集所有专家，促进工程电子与电气领域的更好协作和信息共享。该期刊为工程电子与电气领域的科研人员提供了一个高影响力的论坛，使该领域的科研人员、从业人员和学生能够接触到尖端的经验性调查分析、学术对话以及行业科研成果的最新发展。通过收录高质量的原创论文和评论论文，促进工程电子与电气领域的应用与发展。该期刊还将该领域的创新与应用，以提高研究的质量和实用性。
Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics是一本由AVS Science and Technology Society出版社发行的知名工程电子与电气期刊。该杂志社联系方式J. Vac. Sci. Technol. B。审稿过程是确保期刊质量的关键环节。这一时间周期既体现了编辑部对稿件质量的严格把关，也反映了审稿专家对学术研究的尊重和支持。在这个过程中，作者们可以充分利用这段时间对自己的研究成果进行完善和优化，以提高论文的质量和影响力。如果您对该期刊感兴趣，并希望了解更多关于投稿流程、投稿要求和技巧的信息，您可以咨询本站的客服老师，我们将帮助您了解期刊的投稿要求、审稿流程以及可能遇到的问题，并根据您的具体情况提供相应的建议和解决方案。
Journal Of Vacuum Science And Technology B:nanotechnology And Microelectronics杂志近期中国学者发表的论文主要有：
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1、Optimizing photoresist linewidth roughness in ion beam shaping: A systematic study of stage angular configuratio
Author: Wu, Xiaojian; Dong, Shuo; Xu, Kaidong; Zhuang, Shiwei
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2、Dual-gate Hf-doped InZnO field-effect transistors with sub-0.1 V threshold voltage shift under bias stres
Author: Li, Tiaoyang; Hu, Rongling
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3、Multiphysics simulation of non-uniform magnetic fields' effect on plasma uniformity in capacitively coupled plasma
Author: Cui, Yu-Meng; Liu, Ze-Xuan; Zhang, Si-Bo; Chen, Long; Zhang, Quan-Zhi
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4、Parametric study and performance evaluation of the louver structure in the pumping pipeline of electron beam evaporation coating equipmen
Author: Yuan, Zuhao; Li, Yong; She, Pengcheng; Gong, Jun; Shi, Renping; He, Qiufu; Liu, Fangting; Li, Junhui
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5、Ag-doping induced enhancement in power factor of flexible n-type Bi2Te2.7Se0.3 thin film
Author: Tian, Xujiang; Wu, Chonghao; Ma, Congming; Liang, Shaojun; Zhu, Hanming; Yue, Song
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6、Study on the imaging of bright-field and dark-field for contact holes in extreme ultraviolet lithography considering stage vibration effect
Author: Shen, Hao; Zhang, Libin; Wang, Jiashuo; Rui, Dinghai; Su, Yajuan; Wei, Yayi
